低溫恒溫反應浴常應用于對半導體制造裝置發熱部的冷卻：單晶片洗凈轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。并且對激光裝置發熱部分的冷卻：激光加工、熔接機的發熱部分、激光標志裝置、發生裝置、二氧化碳激光加工機等起到很大作用。 低溫恒溫槽是自帶制冷和加熱的高精度恒溫源，兼具小型冷水機的功能。廣泛應用于石油、化工、冶金、醫藥、生化、物性，測試及化學分析等研究部門、高等院校、工廠實驗室及計量質檢部門。
低溫恒溫反應浴說明：
1.根據大空間制冷原理，采用全新改進蒸發器，降溫更迅速、溫度更均勻;
2.全新設計的專業電路，PID輸出，控溫更;
3.功能鍵均采用觸摸軟鍵;
4.溫度、時間數顯;
5.預約開機，延時關機;
6.具備超溫、差溫報警功能
7.采用風冷式全封閉壓縮機組，進口壓縮機，制冷量大;
8.可在工作槽內進行低溫實驗或將槽內冷液外引，冷卻機外實驗器;
低溫恒溫反應浴主要特點
1.風冷式全封閉制冷壓縮機,降溫速度快。
2.微機智能控制,溫度溫度。
3.數顯分辨率0.1℃或0.01℃，具有溫度測量值偏差修正功能。
4.溫度超溫保護,自動切斷電源并報警。
5.制冷系統過熱、過流自動保護。
隨著低溫恒溫反應浴的應用越來越廣泛，正確地了解干燥及干燥設備的工作機理有助于成功地完成干燥過程，但是仍然需要我們不斷地投人人力和物力去進一步進行干燥技術的研究和開發，以使其在生產高質量產品的同時，有效地來提高工作效率。
